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半导体设备
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WET Station清洗机 (拥有技术/业绩/价格竞争力)
6, 8” Wet Station
* Wet Cleaner
* Application :  6, 8”  Wafer
*  Features  
  - Method : Full  Automation(HMI)
  - Capacity : 50 枚
  - Type : Cassette less, Cassette
  - Drying : IPA 以及 HDI
  - Addit’l System :  Megasonic
  - MES System